存储芯片技术发展分析报告
技术发展趋势:制程不是唯一标准,新技术竞相涌现4.1 NOF Flash:进入40nm制程,SPI接口技术不断优化1NOFFlash制程进展缓慢1988年,Intel推出第一款NOF Flash商用产品,制程为1.5微米。2005年,Intel推出65nm制程产品,直到2020年,65nm依然是NOF Flash主流制程,而与NOF Flash同源的闪存产品NAND Flash早已进入10nm制程。市场高端玩家美光与cypress目前均已采用最先进的45nm制程,中低端市场主要产商兆易创新与旺宏于2019年推出55nm制程,华邦预计于2021年量产45nm制程产品。图:市场主要产商产品情况公司经营模式现有产品制程产品容量范围产品应用美光IDM45nm128MB-2GB汽车、工控、航空航天cypressIDM45/65nm64MB-4GB汽车、工控、航空航天旺宏IDM55/75nm512KB-2GB消费,PC,汽车,工控华邦IDM58/65nm512KB-2GB消费,PC,汽车,工控兆易创新Fabless55/65nm512KB-512MB消费,PC资料来源:公司官网,网络新闻整理,国元证券研究中心请务必阅读正文之后的免责条款部分4.1 NOF Flash:进入40nm制程,SPI接口技术不断优化2SPI接口技术优化NOFFlash效率串行外设接口(SPI